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潜在変数のマスク合成 (Latents Composite Mask)

指定されたピクセルオフセット位置で、任意の画像マスクを通してソース(転送元)潜在変数をデスティネーション(合成先)潜在変数に貼り付けます。

カテゴリ: ModularDiffusion/Transform

概要 (TL;DR)

  • (x_offset, y_offset) の位置にソース潜在変数をデスティネーション潜在変数へ合成します。白マスクピクセル → ソース、黒マスクピクセル → デスティネーションが残ります。
  • オフセットは ピクセル空間 の値です。ノードが内部で自動的に潜在空間に変換(÷ 8)します。
  • resize_source を有効にすると、合成前にソースの空間サイズをデスティネーションのサイズに合わせて自動リサイズします。
  • マスクはソース潜在変数のサイズに合わせて自動リサンプリングされます。

ワークフローにおける一般的な配置 (Typical workflow position)

Generate Latents (dest) ──┐
Generate Latents (src) ───┼─→ [Latents Composite Mask] → Generate Media Latents
Paint Mask (mask) ────────┘

ノードプレビュー (Node preview)

Latents Composite Mask

入力 (Inputs)

名前 型 必須 備考
destination_latent LatentArtifact はい ベースキャンバスとなる合成先潜在変数。
source_latent LatentArtifact はい 貼り付ける転送元潜在変数。
mask_image ImageArtifact / ImageUrlArtifact いいえ ブレンド用マスク。省略した場合は、配置領域全体がソースで置き換えられます。

出力 (Outputs)

名前 型 備考
output_latent LatentArtifact ソースが合成されたデスティネーション潜在変数。

パラメータ一覧 (Parameters)

配置設定 (Placement)

名前 型 デフォルト 備考
x_offset int (ピクセル, 0〜2000) 0 水平方向の配置位置(内部で 8 除算)。
y_offset int (ピクセル, 0〜2000) 0 垂直方向の配置位置(内部で 8 除算)。
resize_source bool False 合成前にバイリニア補間でソースをデスティネーションの空間解像度にリサイズ。

マスクオプション (Mask options) (デフォルトでは折りたたみ)

名前 型 デフォルト 備考
channel 選択肢 alpha ブレンド重みとして使用する mask_image のチャンネル。
invert_mask bool False ソースとデスティネーションの適用領域を反転。
grow_shrink float (-100〜100) 0 マスク境界の拡張(+)または収縮(-)。
blur_mask float (0〜100) 0 マスク境界のフェザー(ぼかし)。

ヒントと注意点 (Tips & pitfalls)

  • 重複領域のみが合成されます: x_offset + ソース幅がデスティネーションキャンバスの外側にはみ出る場合、範囲外の部分は無視されます。まったく交差しない場合、デスティネーションがそのまま出力されます。
  • 潜在空間オフセットではなくピクセルオフセットです: 1024px のデスティネーション = 128 潜在単位です。オフセットは分かりやすいピクセル空間で指定し、ノード内部で VAE スケールファクター(8)で除算されます。
  • 4D 静止画および 5D 動画潜在変数の両方に対応: 動画潜在変数の場合、マスクは時間軸(フレーム方向)全体にブロードキャストされます。
  • 出力はデスティネーションの shape を継承します: メタデータはマージされ、キーが重複する場合はデスティネーション側の値が優先されます。

関連項目 (See also)